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      NCHa型氣體純化裝置

      簡潔、快速的氮氣提純方式

      本技術適用于簡單分子氮、氫、氧、一氧化碳、二氧化碳氣體和惰性氣體氬、氦、氪、氙、氖氣,以及低碳直鏈飽和碳氫化合物甲烷、乙烷、丙烷、丁烷等等氣體,加氫脫除氧雜質或者加氧脫除氫雜質,獲取高純氣體。

      NCHa型氣體純化裝置
      • 高可靠性

        高可靠性

        擁有自主的先進技術,采用先進的節能工藝流程,配合使用自制的除氧催化劑,設備運氣更穩定,可靠,使用時間更長

      • 先進的程控閥門技術

        先進的程控閥門技術

        獨特的程控閥門,結構緊裝、占空間小、漂亮美觀、開關次數高達100萬次無故障

      • 占地面積小  自動化控制

        占地面積小 自動化控制

        裝置工藝流程簡單、結構緊湊、占地面積小、較小空間需求,裝置自動化程度高,觸摸屏控制;開停機方便快捷,啟動時間短,可遠程控制設備啟停

      • 穩定運行的有效保證

        穩定運行的有效保證

        裝置運行穩定性好,可靠性高,常溫常壓下工作,性能好,正常使用、維護下13X分子篩使用時間,可達10年以上,除氧催化劑可達5年以上

      配置功能
      常規配置功能

      可編程序控制器自動化控制

      氮氣純度、流量在線監測

      冷干機、過濾器自動排污;

      可選配置功能

      備用氮氣自動補充、自動切換

      人機界面控制系統

      故障報警、自動關閉加氫電磁閥

      全自動開停機

      技術指標

      原料氣

      氫氣

      氨分解氫

      產品氣

      氧含量:0.01%~2%

      壓力: 0.5MPa~1.0MPa

      純度(%):≥99%

      壓力(MPa):≥原料氣壓力+0.05MPa

       

      氧含量:≤10ppm

      殘余氨:≤10ppm

      壓力:≥原料氣壓力+0.05MPa

      純度:≥99.9999%

      氧含量:≤1ppm

      氫含量≤1000ppm(氫氣純化項目除外)

      CO2含量:≤1ppm

      含塵粒徑:≤0.01μm

      含塵量: ≤1mg/m3

      常壓露點:≤-60℃

      注: 1. 原料氣指標不在范圍內的項目,請咨詢我司定制。

      2. 對產品氣氫含量≤500ppm,-60℃<常壓露點≤-80℃我司可特殊供貨。

      原理

      NCHa型氣體純化裝置系采用催化反應技術,利用在催化劑參與下,促進氣體中的氧氣雜質與加入的氫氣發生化學反應而生成水,實現脫除氧雜質的目的。

       

      設備組成

      NCHa型氮氣純化裝置由普氮預處理系統、自動加氫系統、吸附干燥系統、電氣控制系統四大部分組成。具體配件有觸摸屏orTD200、氮氣分析儀、流量計、質量流量控制器、可編程序控制器、除氧塔、干燥塔、冷干機、熱換器、過濾器、管道氣動閥、電磁閥。

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